Italiano
English
Français
Español
Euskara
Català
Deutsch
Nederlands
Português
Shqiptare
Български
Čeština
Ελληνικά
Hrvatski
Magyar
Македонски
Polski
Română
Српски
Slovenský
Slovenščina
Türkçe
Русский
Dansk
Suomalainen
Íslenskur
Norsk
Svenska
Lombard
Marchigiano
Pugliese
Romano
Siciliano
Toscano
Veneto
č. 1 ALD systém na depozíciu tenkých vrstiev v atómovej mierke BENEQ TFS500, rozmery 1 800 mm x 900 mm x 2 033 mm, teplotný rozsah 25-500 °C (zariadenie určené na pokročilý výskum a priemyselnú výrobu v oblastiach mikroelektroniky, fotoniky, senzoriky, funkčných povlakov a nanotechnológií; umožňuje riadené, rovnomerné a konformné nanometrické depozície aj na zložitých a trojrozmerných povrchoch).
Značka: Beneq
Model: TFS500