Sistema ALD pe' Deposizione de Film Sottili

n. 1 sistema ALD pe' deposizione de film sottili a scala atomica BENEQ TFS500, dimenzione 1.800 mm x 900 mm x2.033 mm, range de temperatura 25-500 °C (macchina destinata a la ricerca avanzate e a la produzione industriale ti setture de la microelettronica, fotonica, sensoristica, coating funzionale e nanotecnologie; permette deposizioni nanometriche controllate, uniforme e conformi, pure sus a superfici complesse e tridimensionali).

Marca: Beneq

Mudèle: TFS500