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n. 1 sistem ALD per deposizion de film sottij su scala atomica BENEQ TFS500, dimension 1.800 mm x 900 mm x2.033 mm, range de temperatura 25-500 °C (machina destinada a la ricerc avancada e a la produzion industriala in di settor de la microelettronica, fotonica, sensoristica, coating funzional e nanotecnologie; la permet deposizion nanometrich controlada, uniform e conform, anca su superfici compless e tridimensional).
Marca: Beneq
Model: TFS500