Sistema ALD pe' la Deposizione de Film Sottili

n. 1 sistema ALD pe' la deposizione de film sottili a scala atomica BENEQ TFS500, dimensioni 1.800 mm x 900 mm x2.033 mm, range de temperatura 25-500 °C (macchina destinata a la ricerca avanzata e a la produzione industriale ne' settori de la microelettronica, fotonica, sensoristica, coating funzionali e nanotecnologie; permette deposizioni nanometriche controllate, uniformi e conformi, pure su superfici complesse e tridimensionali).

Marche: Beneq

Modèllo: TFS500