Italiano
English
Français
Español
Euskara
Català
Deutsch
Nederlands
Português
Shqiptare
Български
Čeština
Ελληνικά
Hrvatski
Magyar
Македонски
Polski
Română
Српски
Slovenský
Slovenščina
Türkçe
Русский
Dansk
Suomalainen
Íslenskur
Norsk
Svenska
Lombard
Marchigiano
Pugliese
Romano
Siciliano
Toscano
Veneto
č. 1 ALD systém pro depozici tenkých vrstev v atomovém měřítku BENEQ TFS500, rozměry 1 800 mm x 900 mm x 2 033 mm, teplotní rozsah 25-500 °C (zařízení určené pro pokročilý výzkum a průmyslovou výrobu v oborech mikroelektroniky, fotoniky, senzoriky, funkčních povlaků a nanotechnologií; umožňuje řízené nanometrové depozice, rovnoměrné a konformní, i na složitých a trojrozměrných površích).
Značka: Beneq
Model: TFS500