Sistema ALD pe' la Deposizione di Film Sottili

n. 1 sistema ALD pe' la deposizione di film sottili a scala atomica BENEQ TFS500, dimensioni 1.800 mm x 900 mm x 2.033 mm, intervallo di temperatura 25-500 °C (macchina 'un po' destinata alla ricerca avanzata e alla produzione industriale ne' settori della microelettronica, fotonica, sensoristica, rivestimenti funzionali e nanotecnologie; permette deposizioni nanometriche controllate, uniformi e conformi, anche su superfici complicate e tridimensionali).

Marca: Beneq

Modello: TFS500