Sistema ALD pe la Deposizione de Film Sottili

n. 1 sistema ALD pe la deposizione de film sottili a scala atomica BENEQ TFS500, dimensioni 1.800 mm x 900 mm x 2.033 mm, range de temperatura 25-500 °C (macchina pensata pe la ricerca avanzata e pe la produzione industriale nei settori de la microelettronica, fotonica, sensoristica, coating funzionali e nanotecnologie; permette deposizioni nanometriche controllate, uniformi e conformi, pure su superfici complicate e tridimensionali).

Marca: Beneq

Modello: TFS500